我校首批建立的研究中心之一——“微纳尺度上的科学和工程研究中心”，经市建筑工务署和我校有关部门通过三年共同努力，其主要载体公共分析测试中心洁净间实验室于近期建成使用。这是我校科研和教学基础设施建设的又一重要进展。据评估，南科大洁净实验室的施工面积，设备先进性等指标在全国重点高校中处于领先位置。

          洁净间实验室是分析测试中心服务于全校科研和教学工作的公共平台，也将面对校外相关需求开放。目前洁净间实验室工艺设备包括：电子束曝光机，接触式紫外曝光及自动涂胶机，原子层沉积仪，多源集成溅射仪，感应等离子体刻蚀仪，反应等离子体刻蚀仪等20多台先进工艺设备（见附图）。这些工艺设备可以应用于开发新型纳米电子器件、各类MEMS系统和生物芯片的研究开发、新型低维量子体系材料及半导体材料、绿色能源相关材料和器件的研究开发等工作。

          据介绍，使用洁净间实验室工艺设备须在南科大学校FOM系统上预约，收费使用。

电子束曝光机：可做最小尺寸１０纳米的图形

紫外曝光机，可用于MEMS传感器制作

原子层沉积仪（ALD）可制备原子层级高质量薄膜

多源集成溅射仪有３个靶源可同腔进行溅射

ICP刻蚀仪常用于沟道及介质膜干刻蚀

刻蚀仪（RIE）可用于介质层刻蚀

供稿：公共分析测试中心