仪器介绍:

结构：包含集成式反应腔、固体源脉冲系统、液体源脉冲系统、气体源脉冲系统、臭氧源脉冲系统、大型干泵等系统；

功能：反应物在N2气带动下在加热衬底表面热分解后进行原子层级沉积，并通过周期式气流脉冲交替进入反应腔式实现薄膜的生长；

特色：原子层级薄膜生长，可制备低缺陷密度的外延式单晶薄膜；

应用：可用于制备和研究目前特别热门的第三代半导体材料、high-K氧化物，石墨烯及其他二维材料、拓扑绝缘体材料、LED发光材料，用于太阳能转换的各类无机材料等，是进行突破性研究工作、发现新材料所依赖的重要研究设备。

可以生长的材料：

仪器管理员联系方式:

孙晓宇,88015498,sun.xy@sustc.edu.cn